复合碳化硅陶瓷过滤膜材料的制备及表征--《膜科学与技术》23年...
【摘要】:研究了陶瓷纤维过渡层浆料的不同工艺配方对复合碳化硅过滤膜材料结构的影响,陶瓷粘结剂量对过滤膜的孔隙率、孔径大小和孔径分布的影响,以及陶瓷粘结剂量为5%...
等离子体增强磁控溅射沉积碳化硅薄膜的化学结构与成膜机理- 豆丁网
阅读文档 上传时间:23年月4日 等离子体增强磁控溅射沉积碳化硅薄膜的化学结构与成膜机理孙文立徐军鄢陆文琪(大连... 均匀性好等优点.磁控溅射一般采用SiC陶瓷烧结靶或者C靶和Si靶作为溅射靶, Ar气作为...
等离子体气相合成碳化硅超细粉的热力学计算与分析--《化工冶金》...
【摘要】:本文使用SOLGAS软件,对以三氯甲基硅烷为原料的等离子气相合成β-SiC超细陶瓷粉未的多相多组份系统进行了热力学平衡计算.在以氩氢及氮氢为等离子工作气和总压...
碳化硅陶瓷粉体的制备技术-中国陶瓷网
25年9月8日-这称之为小尺寸效应碳化硅是人造的强共价键的非氧化物陶瓷材料,9世纪初首先被Berzeliuss合成,其工艺上的重要性经美国化学家Acheson揭示后...
常温下采用射频等离子体法合成碳化硅膜_CNKI学问
碳化硅材料具有抗高温、抗辐射、高饱和电子漂移速度、高击穿强度、高的热导率、与... 等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhaneed Chemieal Vapor块position,PECVI))、热...
碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究 - 豆丁网
阅读文档 67页 - 上传时间:2年9月26日 为理想的碳化硅陶瓷烧结工艺,因此探讨一个有效的碳化硅陶瓷烧结工艺仍然具 有重要的意义。空心阴极效应是气体放电时的一种特殊形式,其特点是具有高密 度大能量离子对阴极...
葛昌纯:面向等离子体材料与可控核聚变 _滚动新闻_新浪财经_新浪网
29年9月23日-活性金属真空钎焊、活性金属铸造、自蔓延燃烧预热爆炸固结、分次热压等新技术,成功地制备出了多个体系的耐等离子体冲刷的功能梯度材料,包括...
微波等离子体化学气相沉积法在硅片上同时生长碳化硅和金刚石(英...
9刘岩;黄政仁;董绍明;杨金晶;江东亮;;孔筋对碳化硅泡沫陶瓷力学性能的影响[A];24年中国材料研讨会论文摘要集[C];24年 李新蕾;陈爱平;刘伟;卫上方;;合成溶剂黄2清洁工...
激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅器件中杂质元素_CNKI...
引言碳化硅(SiC)陶瓷具有高温强度大、硬度高、耐腐蚀性强、热稳定性佳、耐磨性好... 激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法(LA-ICP-MS)作为一种固体直接进样和微区分析技术...
激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅器件中杂质元素- 道客...
阅读文档 8积分 - 上传时间:24年7月25日 等离子体质谱的条件进行了优化 ,用玻璃标样为外标 , i内使对碳化硅陶瓷器件进行了测... F V V对样品的表面进行超声清洗 2次后 ,将碳化硅块体切割成方片( 2c x m)采用 H ( ...
碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究.pdf.pdf - 免费查看前5页...
淘豆网网友7552739近日为您收集整理了关于碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研... 清洁无污染,而且安全可控,可以使烧结样品在真空中被迅速的加热到很高的温度。从而...
力永先进陶瓷有限公司
力永陶瓷喷涂材料有限公司位于安徽省市滨湖新区,地理位置优越,交通十分便利。 公司是一家专业从事热喷涂表面工程技术的高科技企业。主要从事开发、研制、生产表...
碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究 - 道客巴巴
阅读文档 4积分 - 上传时间:22年2月2日 北京工业大学硕士学位论文碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究姓名谢昊男申请学位级别硕士专业材料学指导教师从曾75摘要烧结工艺是决定粉末冶金制...
碳化硅陶瓷粉体的制备技术_百度文库
阅读文档 5页 - 免费 - 上传时间:2年2月5日 凝胶法、聚合物热分解法等;气相法,如化学气相沉积法、等离子体法、激光诱导法等。.2. 碳热还原法该法首先由Acheson发明,是在Acheson电炉中,石英砂中的二氧化硅被碳所...
碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究硕士学位论文.pdf - 免费...
北京工业大学硕士学位论文碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究姓名:谢昊男申请学... 清洁无污染,而且安全可控,可以使烧结样品在真空中被迅速的加热到很高的温度。从而...
机械粉碎法制备碳化硅粉体 - 豆丁网
阅读文档 8页 - 上传时间:23年4月8日 再从产物中得 到纳米粉体。按初始原料的物态又可分为固相法, 如碳热还原法、S 如化学气相沉积法、等离子体法、激光诱导法等。本次试验采用机械合成法制备碳化硅粉 末,目...
碳化硅多孔陶瓷支撑体表面涂层研究 - 豆丁网
阅读文档 5页 - 上传时间:22年6月日 应性L2 J,碳化硅氧化形成的si2保护层会由于同这 些杂质反应生成低熔点熔盐而气化造成保护膜破 坏【3;同时在用冷气流脉冲反吹清洗陶瓷管过程 中,因与碳化硅的热膨胀系数...
等离子射流刻蚀碳化硅-第5页
磨料一般使用氧化铝、碳化硼、碳化硅等。四、.、陶瓷或脆硬金属的切割、去毛刺、清... 等离子刻蚀印刷电印刷电极 PECVD二次清洗烧结分选测试检验入.石英舟放在碳化硅臂...
碳化硅陶瓷空心极等离子烧结工艺研究.pdf文档全文免费阅读、在线看
因此探讨一个有效的碳化硅陶瓷烧结工艺仍然具有重要的意义。空心阴极效应是气体放电时的一种特殊形式,其特点是具有高密度大能量离子对阴极轰击而产生很高的热效应,利...
毕业论文(设计)-碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究- 道客巴巴
阅读文档 66页 - 积分 - 上传时间:22年月24日 北京工业大学硕士学位论文碳化硅陶瓷空心阴极等离子烧结工艺研究姓名:谢昊男申请学... 清洁无污染,而且安全可控,可以使烧结样品在真空中被迅速的加热到很高的温度。从而...
